Project: | Electron-beam lithography for preparation of nanostructures |
---|---|
Research institute: | Institute of Scientific Instruments, AS CR |
Description: | |
Solver: Kolařík Vladimír I GA ČR GA102/05/2325, date: 01:01:2005 - 31:12:2006. Actual electron-beam lithographic system BS 600 works with the limit resolution of 0.1 microns. Recently, we have received a couple of requirements for production of structures with better resolution. The aim of this project is to study a preparation of structures with the resolution below 100 nanometers. The solution has to address both the system part of the lithograph and the technological issues concerning such a high resolution. As a result, nanostructures with extremely high resolution will be prepared. |
Gate2Biotech - Biotechnologický portál - Vše o biotechnologiích na jednom místě.
ISSN 1802-2685
Tvorba webových stránek: CREOS CZ
© 2006 - 2024 Jihočeská agentura pro podporu inovačního podnikání o.p.s.
Zajímavé články s biotechnologickým obsahem:
Zaměstnání nabídka - Nabídky zajímavých zaměstnání
Zaměstnání pro studenty - Nabídky zajímavých zaměstnání pro studenty
Vylepšený CRISPR/Cas12 se vejde do terapeutického adenoviru
Modulární fluorované lipopeptidy zabírají na multirezistentní patogeny